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场效应管击穿常见原因有哪些

场效应管击穿是其最主要的失效模式之一,指器件失去电压阻断能力,漏源极间呈现极低电阻(通常1Ω)的不可逆损坏。击穿原因可归

场效应管击穿是其最主要的失效模式之一,指器件失去电压阻断能力,漏源极间呈现极低电阻(通常<1Ω)的不可逆损坏。击穿原因可归纳为电压应力、电流应力、驱动失控、环境因素和器件缺陷五大类,具体表现和诱因如下:

一、电压击穿:最常见且最致命

1.

根本原因:漏源电压Vds持续或瞬态超过击穿电压BVDSS

典型诱因:

感性负载关断尖峰:电机、变压器等感性负载在MOS关断时产生反向电动势,尖峰可达电源电压的3-5倍。例如48V电机驱动中,未加吸收电路时尖峰轻松超过200V,直接击穿100V MOS

雷电浪涌:交流输入端未配置有效TVS抑制器,±4kV浪涌直接传导至MOS漏极

PCB布局失误:功率回路寄生电感过大(>50nH),开关时di/dt在电感上感应出高压叠加于Vds

失效特征:MOS管上电即炸,漏源电阻<1Ω,封装内部可见金属化层熔球

2.

根本原因:栅源电压Vgs超过最大额定值±20V(硅MOS)或 ±7V (氮化镓MOS)

典型诱因:

静电放电(ESD):人体静电(可达8kV)直接接触栅极引脚,击穿仅几纳米厚的栅氧化层

驱动电路故障:驱动IC失效导致输出电压失控至12V以上

米勒效应:漏极dv/dt通过Cgd耦合抬升栅极电压,若下拉能力不足,Vgs瞬时超标

失效特征:栅源电阻从无穷大变为几十欧姆,用二极管档测量栅源无正常压降

3.

根本原因:开关过程中LC谐振产生高频过压尖峰,叠加在直流母线上

典型诱因:

体二极管反向恢复:桥式拓扑中,Qrr过大导致反向恢复电流在寄生电感上感应出尖峰

栅极电阻不当:Rg过小导致开关过快,di/dt过大;Rg过大则关断延迟,增加尖峰能量

PCB环路电感:驱动回路电感>10nH时,栅极振铃可能超过Vgs(max)

二、电流击穿:热失控的终极表现

4.

根本原因:漏极电流Id超过最大脉冲电流Id,pulse,导致结温超过Tjmax(通常150℃)

典型诱因:

负载短路:电机堵转、电容击穿时,电流不受限制上升至数百安培

驱动不足:栅极电压Vgs过低(<Vgs(th)+2V),MOS工作在线性区而非饱和区,功耗剧增(P=I²×RDS(on))

散热失效:散热器脱落、导热硅脂干涸,热量无法导出,热阻RθJA从30℃/W飙升至100℃/W以上

失效特征:MOS运行一段时间后突然失效,热成像显示壳温>100℃,冷却后又短路(热失控)

5.

根本原因:反复雪崩未有效散热,单次雪崩能量虽在EAS范围内,但累积能量超标

典型诱因:

无吸收电路:感性负载场景中未加RC或TVS,每次开关都发生雪崩

工作频率过高:>200kHz时雪崩次数剧增,即使单次能量安全,累计也导致失效

感性负载能量超标:电感储能½L×I²超过器件单脉冲雪崩能量EAS

三、驱动与使用不当

6.

根本原因:驱动电压失控、负压不足或时序错误

典型诱因:

电源纹波过大:驱动IC供电噪声耦合至栅极,Vgs波动导致MOS在线性区与饱和区反复切换

负压关断失效:高侧N-MOS驱动中,自举电容失效导致Vgs无法降至0V以下,误导通

死区时间不足:桥式拓扑中上下管同时导通,形成直通,电流瞬间达到Idmax的数倍

7.

根本原因:多管并联时因参数离散导致电流分配不均

典型诱因:

Vgs(th)离散性:同一批次Vgs(th)偏差可达±0.5V,阈值低的管子承担更多电流

RDS(on)差异:并联时电流按电阻反比分配,Rds小的管子过热

PCB布局不对称:走线长度差异导致源极电感不均,开关时电流路径优先选择低感支路

失效过程:某管先过热烧毁短路,剩余管子承担全部电流继而连锁失效

四、环境与外部因素

8.

根本原因:ESD防护不足,栅氧化层被数千伏静电击穿

高风险场景:生产车间湿度<40%、操作人员未佩戴防静电手环、器件运输中未用防静电袋

防护失效阈值:人体模型(HBM)只需2000V即可击穿典型MOS的栅氧化层

9.

根本原因:散热设计不足,环境温度Ta或结温Tj超标

典型诱因:

散热器不匹配:热阻RθSA过高,无法将热量导出

风道堵塞:电源内部积灰导致对流失效

功率降额不足:未按70%降额使用,长期满载运行

失效机理:本征载流子浓度随温度指数增长,漏电流剧增导致热失控,最终击穿

10.

根本原因:潮湿环境下,PCB表面污染物在电场作用下发生离子迁移,形成导电枝晶

失效过程:枝晶从漏极生长至源极,数周后形成短路通路,漏电流从nA级增至μA级,最终mA级短路

五、器件制造缺陷

11.

根本原因:器件出厂时存在 latent defect(隐性缺陷)

典型缺陷:

氧化层针孔:栅氧化层存在微米级缺陷,电场集中击穿

键合线虚焊:机械应力下键合线脱落,接触电阻剧增,局部过热

金属化层空洞:蒸铝工艺缺陷导致电流密度不均,电迁移加速

失效特征:上电数小时至数天内突然失效,批次性出现

六、预防击穿的核心策略

1.

BVDSS降额20%:工作电压不超过击穿电压的80%

TVS瞬态抑制:漏源极并联TVS(如SMCJ58A),钳位电压< BVDSS×80%

RCD吸收电路:在感性负载两端并联RC或RCD网络,抑制关断尖峰

栅极TVS保护:栅源极间并联5V双向TVS(硅MOS)或6.8V TVS(GaN),响应时间<1ps

2.

检流电阻实时监测:源极串联0.01Ω电阻,过流阈值设为Id的120%

快速熔断保险丝:在MOS前串联快熔保险丝(如392系列),响应时间<10ms

退饱和检测:监测Vds压降,若Vds>2V且持续>1μs,判定为过流立即关断

3.

负压关断:关断时施加-2V至-5V负偏压,加速关断并防止dv/dt误导通

栅极串联电阻:Rg=10-47Ω,抑制振荡但不过度减慢速度

有源米勒钳位:在栅源极间增设有源钳位电路,响应时间<1ns

ESD防护:操作人员佩戴防静电手环,PCB设计时栅极引脚周围铺地保护

4.

功率降额50%:实际功耗< Ptot的70%,留30%热裕量

散热器匹配:TO-220封装需加装热阻<5℃/W的散热器

温度监测:在MOS封装表面贴NTC,超80℃自动降载或关断

5.

PCB布局:驱动回路面积<50mm²,开尔文源极分离,驱动走线<20mm

并联均流:多管并联时确保Vgs(th)匹配(偏差<0.1V),PCB布局对称

环境控制:生产车间湿度>40%,器件存储用防静电袋

七、失效后的诊断要诀

万用表快速检测:

二极管档:红S黑D,正常0.4-0.9V;显示0V或OL已击穿

电阻档:漏源电阻应>1MΩ,<100Ω短路

栅极电荷感应:手指触摸栅源极,二极管档读数应变化,无变化说明栅极开路

严禁直接更换上电:必须先断开负载,用可调电源限流(100mA)上电测试,确认无异常后再逐步加载,否则新器件会立即二次损坏。

核心结论:场效应管击穿90%源于设计缺陷、参数失配或应力超标,10%源于器件早期失效或极端浪涌。科学降额、完善保护和精细布局是预防击穿的三道防线,任何一道缺失都将导致系统可靠性崩溃。