国产EUV 光刻机今年能交卷？三大难题全突破，这回真要弯道超车了

国产EUV光刻机真的要来了么？结合多方信息，现在我们可以做个大胆的推测，我们的国产EUV光刻机原型机，最快应该就会在今年下半年问世。

4月29号的时候，南华早报报道称，由阿斯麦前首席科学家林楠博士带领的团队，取得了对EUV光刻机技术的最新突破，由林楠团队研发的固体激光器，在电光转换效率方面，已经达到了国际顶尖水平，有望成为新一代激光等离子体极紫外光刻光源的驱动光源。

我去查了一下林楠博士的资料，真正的大牛。他曾在荷兰阿斯麦担任研究部研发科学家以及研究部量检测光源技术负责人，期间累计申请、授权国际专利110项，他的导师是2023年诺贝尔物理学奖获得者安妮·吕利耶。2021年，林楠回到国内，在中科院任职，主攻极紫外光源、芯片量检测两大方向。

那么，这一次，林楠团队突破的固体激光器，又有什么价值呢？

首先，我们要知道，EUV光刻机的研制难度极大，目前全世界也只有荷兰阿斯麦一家公司能制造，而且阿斯麦的EUV光刻机，也是集合了整个西方工业之力，才取得的突破。EUV光刻机又被称为极紫外光刻机，它的研发难点很多，最主要的有这三个：光源、光学系统和设备制造。

首先是光源，EUV光刻机需要有稳定的13.5纳米波长的极紫外光，只有在这个条件下，才能实现7纳米及以下芯片的制备工作。在今年1月份，哈工大宣布了一条重磅消息，他们搞定了13.5纳米极紫外光源，这就相当于为我们的EUV光刻机实现了0到1的突破。

当然，只是搞定光源还不行。

打个比方，水的沸点是100摄氏度，你划一根火柴，温度肯定超过100摄氏度，但是你很难靠一根火柴就烧开一壶水，因为火柴很快就会熄灭，你无法提供稳定的温度条件。EUV光刻机也一样，不仅需要13.5纳米极紫外光，还需要稳定输出13.5纳米极紫外光，这时候就需要一套能够提供支持的光学系统。而林楠团队的突破点，就是这个。

当然，就算有光源和光学仪器，也不能马上就能制造EUV光刻机。EUV光刻机号称人类历史上最为复杂精密的机器，因为其内部有超过10万个精密零件，这肯定不是一个研究团队就能搞定的事，它需要的是，一套庞大的供应链来配合。而这，恰恰是中国最大的优势。

在看上个月的新闻，由华为参与的EUV光刻机制造工作已经进入到测试阶段，这说明我们在EUV光刻机设备制造领域，也走到了最后阶段。所以为什么我开头说，最快今年下半年，我们的国产EUV光刻机就能问世。

从我们国产EUV光刻机研发历程来看，我们不是遵循一个技术接着一个技术突破的发展路线，而是把整个技术拆分成不同的单元，分别交由不同的团队来突破，因此才能取得多点开花的效果，从这个角度来看，中国取得成功是必然的。过去，西方可能做得到这一点，但如今他们也做不到了，今天也只有中国能做到。