中国自主研发EUV（极紫外）最晚需要多长时间？Deepseek：15年！光刻机
中国自主研发EUV（极紫外）最晚需要多长时间？Deepseek：15年！光刻机的时间表受多重复杂因素影响，目前尚无明确时间点，但可以结合技术进展、政策支持和行业挑战进行综合推测。1.技术现状与挑战 光学系统：蔡司的反射镜表面...
标签: 极紫外光刻
台积电盘前涨超1%料年底将接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机
消息面上，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机。此外，天风国际分析师郭明錤称，苹果计划于2025下半年推出的新品(例如iPhone17等)将采用自研Wi-Fi7芯片，基于台积电N7工艺制造。(格隆汇)
极紫外光刻新技术问世,能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本
据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并...