发往江西德兴XX半导体有限公司20t/h半导体超纯水设备及含氟酸碱废水处理设备：本项目半导体超纯水设备产水流量20t/h，电阻率18兆欧以上，达到电子级水一级标准。我们来聊聊超纯水和废水有哪些技术要求：

1、业主对纯水技术参数要求：（1）超纯水供水量：20t/h；二级RO出水量：5T/h；（2）电阻率：≥18.1MΩcm（@25℃）；二级RO出水电导率：<3μS/cm（@25℃）（3）总溶解有机碳TOC：<50ppb；（4）颗粒度：< 5个/ml(φ>0.2u)；（5）SiO2含量：<5ppb；（6）温度：22~27℃；（7）细菌含量：<50个/100ml；（8）压力：0.3Mpa

2、废水技术参数要求：（1）酸碱综合废水：包含工艺废水、公辅废水、初期雨水等，设计总水量 40m3/h，其中含氟废水水量为8m3/h，研磨废水水量为8m3/h。（2）控制标准(按 24h/d 连续运行计算)：PH＜9，氟离子＜20mg/L，COD＜500mg/L，氨氮＜50mg/L，并满足《污水综合排放标准》GB8978-1996三级标准。（3）设备配套：改造原有废水站，废水系统应满足招标文件、图纸设计全部内容及有关施工验收规范的要求，管道系统采用UPVC（含阀门管件）。

3.应用范围：■半导体行业：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗。■太阳能光伏行业：单晶硅、多晶硅切片清洗、太阳能电池、石英坩埚、多晶硅方舟、光伏玻璃、高纯硅粉。■LCD、LED、OLED生产清洗用水，光学摄像头清洗，光学材料清洗，导电玻璃清洗。■半导体集成电路板，线路板生产清洗用超纯水。■锂电池材料（磷酸铁锂、三元材料、锂电池隔膜）、蓄电池、锌锰电池生产用水。■电子级超纯化学试剂用纯水，纳米级电子陶瓷材料纯水、**磁性材料用纯水、有色金属、贵金属冶炼用水、航空新材料生产用水、电容器材料腐蚀化成工艺用水。