“光刻机之父”林本坚：中国具备制造5nm芯片能力，美国也已承认。

华为突破美国的技术封锁后，成功研制了属于中国的高端芯片。美国的实验室通过解构分析发现，华为最新的手机芯片已经达到了7纳米制程水平，综合性能相当于5纳米制程。这标志着长期由欧美主导的半导体产业时代的结束，中国的半导体时代随之兴起，美国因此开始寻求方法升级其芯片出口禁令。

近期，美国不仅加强了对AI芯片的出口控制，还封禁了备受国内关注的浸润式光刻机，这是因为美国无法解析华为是如何生产出7纳米芯片的。最终，美国将矛头对准了荷兰ASML公司生产的浸润式光刻机，理论上，这种设备能通过多重曝光支持7纳米制程。

对于外界的忧虑，浸润式光刻机的发明者林本坚最近公开表示，目前来看，中国大陆的7纳米芯片显然是独立研发的。他进一步指出，中国使用的光刻机很可能也是自主研发的。经过多次改进，大陆的设备已经能够生产出5纳米芯片，这令人非常惊讶，美国也已经承认中国掌握了5纳米芯片技术。

林本坚虽然在业界可能不太为人所知，但他被誉为“浸润式光刻机之父”。他在20世纪70年代加入IBM，长期担任核心技术职位。50岁那年，他应张忠谋的邀请加入了台积电，并成为该公司所有技术难题的咨询对象。曾一度濒临破产的ASML光刻机公司依赖林本坚发明的浸润式光刻技术，成功超越了日本的尼康和佳能，成为全球领先的光刻机制造商。 

2015年，林本坚退休时，台积电创始人张忠谋为他举办了一场盛大的退休晚会，称赞他为半导体领域的“王者”。当时有人怀疑中国的7纳米芯片能否维持竞争力，林本坚的一番话几乎肯定了中国大陆不仅能够生产7纳米芯片，其现有设备甚至还能制造出5纳米芯片。

最近，在美国参与一个论坛的台积电创始人张忠谋表示，全球化是这个世界的未来，美国应当放弃对大陆的单边打压，同时，大陆也需要放弃仅仅依靠自主研发，而是应该融入全球供应链。通过张忠谋的言论可以看出，台积电遵循美国对大陆的制裁已无太多意义，美国也已经认可中国在5nm制程技术上的实力，继续打压只会伤害美国自身。

目前，西方各国正寻求重新进入中国市场，他们认识到一旦中国能将芯片成本降至极低，西方企业将面临关闭的局面。