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mos晶体管的三种工作状态

MOS晶体管的三种工作状态依据栅源电压Vgs与漏源电压Vds的相对关系划分,分别是截止区、线性区(欧姆区)和饱和区(恒流

MOS晶体管的三种工作状态依据栅源电压Vgs与漏源电压Vds的相对关系划分,分别是截止区、线性区(欧姆区)和饱和区(恒流区)。这三种状态是MOS管实现开关、放大和恒流功能的物理基础,其边界条件与电流特性截然不同。

一、截止区(Cutoff Region)

判定条件:Vgs < Vth(N沟道)或 Vgs > Vth(P沟道),即栅极电压未达到阈值,沟道未形成。

物理机制:栅极电场不足以在衬底表面感应出反型层,源漏之间仅存在两个背靠背的PN结。漏极施加电压时,PN结处于反向偏置状态,耗尽层阻挡电流通过。此时沟道完全关闭,漏极电流Id仅由PN结反向漏电流构成,典型值为纳安至微安级。

电流特性:Id ≈ 0,器件等效为断开的开关,漏源电阻Rds可达10⁹Ω以上。在数字电路中,此状态对应逻辑"0"或"1"的关断态。

应用场景:电源管理中的待机模式、负载开关的关断态、数字逻辑门的低电平输出。

温度影响:温度升高时,本征载流子浓度增加,截止区漏电流呈指数增长,125°C时可能比25°C高1000倍,这是低功耗设备待机时间缩短的主因。

二、线性区(Linear Region)——又称欧姆区

判定条件:Vgs > Vth 且 Vds < (Vgs - Vth)(N沟道),或 Vgs < Vth 且 |Vds| < |Vgs - Vth|(P沟道)。此时沟道已形成,但漏极电压尚未大到使沟道在漏极端夹断。

物理机制:栅极电场在衬底表面感应出完整的导电沟道,漏源电压在沟道上形成电势梯度。由于Vds较小,整个沟道长度方向都有导电载流子,漏极电流Id同时受Vgs和Vds控制。

电流特性:Id与Vds呈线性关系,器件等效为压控电阻。电流表达式为:

Id = μn·Cox·(W/L)·[(Vgs-Vth)Vds - Vds²/2]

其中μn为电子迁移率,Cox为单位面积栅氧电容,W/L为沟道宽长比。

导通电阻:Rds(on) = 1/[μn·Cox·(W/L)·(Vgs-Vth)],与(Vgs-Vth)成反比。驱动电压越高,导通电阻越小。

应用场景:模拟开关、可调衰减器、电子保险丝、有源负载、恒流源的初级设定。在电源管理中,同步整流管在导通瞬间和关断瞬间短暂工作于线性区。

设计要点:在线性区工作时,MOS管承受大电流和高电压,功耗P = Id×Vds极高,极易发热损毁。因此线性区仅允许瞬态通过,不允许稳态工作。

三、饱和区(Saturation Region)——又称恒流区

判定条件:Vgs > Vth 且 Vds ≥ (Vgs - Vth)(N沟道),或 Vgs < Vth 且 |Vds| ≥ |Vgs - Vth|(P沟道)。此时沟道在漏极端发生夹断。

物理机制:随着Vds增大,漏极端的沟道电压差减小,当Vds = Vgs - Vth时,漏极端沟道厚度减薄至零,出现预夹断。此后Vds继续增加,夹断区向左延伸,但沟道有效长度基本不变,漏极电流Id不再随Vds增加,仅由Vgs控制。

电流特性:Id与Vds无关,呈现恒流特性。电流表达式简化为:

Id = (1/2)·μn·Cox·(W/L)·(Vgs-Vth)²

这是平方律关系,说明Id由(Vgs-Vth)的平方决定。跨导gm = ∂Id/∂Vgs = μn·Cox·(W/L)·(Vgs-Vth),表征电压控制电流的能力。

沟道长度调制效应:实际器件中,夹断区长度会随Vds轻微变化,导致Id有微弱增加,输出电阻并非无穷大,但通常>10kΩ。

应用场景:模拟放大器、恒流源、电流镜、有源负载。在开关电源中,MOS管在导通期间(Vds≈0)和关断期间(Id≈0)快速切换,仅在开关瞬态经过饱和区。

设计要点:饱和区是放大器的理想工作区,Vgs小幅变化即可控制Id大幅变化,实现电压增益。但必须确保Vds足够大,使器件始终处于沟道夹断状态。

四、三种状态的动态转换

MOS管在实际工作中(如开关电源)会快速穿越三种状态:

关断→开通:截止区 → 线性区 → 饱和区(米勒平台)

开通→关断:饱和区 → 线性区 → 截止区

米勒平台:在饱和区,Vgs保持恒定,驱动电流主要为Cgd充电,Vds快速下降。这是开关损耗最集中的阶段。

五、N沟道与P沟道的对比

状态条件镜像对称:

N沟道:Vgs>0开启,Vds>0为正向

P沟道:Vgs<0开启,Vds<0为正向

电流方向相反:

N沟道:电子从源极→漏极,Id从漏极流向源极

P沟道:空穴从源极→漏极,Id从源极流向漏极

阈值电压极性相反:

N沟道:Vth为正值(1-3V)

P沟道:Vth为负值(-1V至-3V)

六、工程应用要点

1. 开关电源设计:MOS管在截止区和饱和区快速切换,线性区仅瞬态经过。设计目标是最小化线性区停留时间,降低开关损耗。

2. 模拟放大器设计:MOS管稳态工作在饱和区,需设置合适的静态工作点(Vgs > Vth + 2V),确保动态信号不进入线性区或截止区。

3. 恒流源设计:利用饱和区电流恒定的特性,将Vgs固定,Id即稳定,用于LED驱动、电池充电。

4. 温度补偿:Vth负温度系数导致饱和区电流随温度升高而增大,需在偏置电路中引入温度补偿,维持工作点稳定。

5. 击穿防范:线性区是功耗最大的危险区,必须避免MOS在Vds高、Id大的条件下长时间停留,否则会因二次击穿而损毁。

核心总结:MOS晶体管的三种工作状态对应三种核心功能——截止区是"关",实现电隔离;线性区是"变阻",实现模拟调节;饱和区是"恒流",实现放大与恒流。理解其物理机制与转换条件,是设计开关电源、模拟放大器和保护电路的基石。