美国人说只要含有他技术的光刻机通通不能卖给中国，中国人说只要含有我技术和材料的稀土，通通不能卖给美国。以后就看是美国能先解决稀土，还是我们能先解决光刻机。 这话听着像赌气，实际上全是硬碰硬的产业实力较量！美国敢拿光刻机卡脖子，仗着荷兰ASML垄断了顶尖EUV技术，2024年还逼着人家扩DUV出口管制，以为能锁死中国先进芯片的路。可他们忘了，自己嚣张的底气，偏偏攥在中国手里——ASML的光刻机看着高级，拆开里面全是中国稀土的影子。 2024年9月，美国商务部一口气更新133页管制清单，把3nm以下GAAFET技术、部分DUV光刻机全列入限制。荷兰紧跟着对齐政策，ASML的1970i、1980i等型号都要申请许可证才能对华出口。 咱们国家早有准备，商务部同步对钐、钆、铽等7种中重稀土实施出口管制。这些可不是普通材料，ASML现有EUV设备的激光晶体、反射镜都离不开它们，少了根本转不动。 ASML自己的财报藏不住实情，2024年中国市场贡献了它27%的收入，是实打实的第二大金主。真断了货，最先疼的是它的营收报表，股价曾一天跌超7%就是明证。 美国人急着找稀土替代，2024年8月掏1020万美元资助四个项目，想从废料里提炼关键矿物。可美国地质调查局数据显示，他们12种关键矿物完全依赖进口，短期根本补不上。 国产光刻机的进展更让人振奋。2024年9月的首台套目录里，国产干式、浸润式DUV都正式入选，干式机型支持28nm制程，浸润式已进入量产调试。这能覆盖大部分工业芯片需求。 就算是顶尖的EUV，咱们也没松劲。东部沿海的研发基地里，等离子体光源路线的EUV已在东莞实测，光源、反射系统等难点陆续攻克。业内预计2027年就能看到量产机型。 更关键的是未来的BEUV技术，美国劳伦斯利弗莫尔实验室研发的BAT激光器，核心是中国的掺铥晶体。靶材要用铽和钆，反射镜得靠镧系元素，全是咱们的优势领域。 上光所、长光所的团队早有突破，钆基BEUV光源的光谱纯度已做到4.35%。这意味着在下一代技术上，咱们不仅不落后，还握着材料话语权。 那些说“中国造不出光刻机”的论调可以停了。从2008年“02专项”启动，上百家单位联手攻坚，十几年磨一剑才有了今天的成果。这靠的是真功夫，不是空话。 美国的管制看似严厉，实则加速了国产替代。2024年咱们光买芯片设备就花了近400亿美元，可国内设备商已能覆盖45nm以上成熟制程，正好补上缺口。 这场较量从不是“谁先解决谁”的赌局，而是产业生态的比拼。美国攥着现有技术，咱们握着未来材料和市场，谁也卡不死谁。 技术封锁从来挡不住发展的脚步。当年被卡脖子的领域，如今多成了优势产业。光刻机和稀土的博弈，终将让世界看到中国产业的韧性。光刻芯片 中企光刻机 光刻机公司 麻烦看官老爷们右上角点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持! 各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。
