荷兰估计要难受了，中国有了自己的光刻机！
全国首台国产商业电子束光刻机在杭州“出炉”，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。
荷兰人谨遵美国的命令，一直不肯把最先进的光刻机卖给我们。以为这样就能阻止我们在半导体和芯片领域内的发展。
近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传来好消息。由浙大量子研究院相关团队自主研发的新一代 100kV 电子束光刻机 “羲之”，已正式进入应用测试阶段。
这台设备专攻量子芯片、新型半导体研发的核心环节，它通过高能电子束在硅基上 “手写” 电路，精度达到 0.6nm，线宽 8nm，可灵活修改设计无须掩膜版，如同用纳米级毛笔在芯片上精准作画，特别适合芯片研发初期的反复调试。
长期以来，光刻机市场一直被荷兰巨头 ASML 所垄断。尤其是最先进的 EUV 光刻机，由于美国的出口限制，ASML 一直无法卖给中国。
即便如此，中国市场对 ASML 的 DUV 光刻机需求依然旺盛。2024 年第二季度，ASML 的 DUV 光刻机销售额中，中国大陆占比接近一半。
然而，美国的限制并未阻止中国在半导体领域的发展，反而促使中国加大自主研发的力度。
这台国产电子束光刻机的诞生，不仅打破了国际技术垄断，更标志着中国在半导体设备领域迈出了重要一步。它的精度比肩国际主流设备，甚至在某些方面具有独特优势。
例如，无需掩膜版的设计，大大降低了芯片研发的成本和时间。对于量子芯片等新兴领域，这种灵活性尤为重要。
荷兰 ASML 此前一直依赖中国市场，但在美国的压力下，不得不限制对中国的出口。然而，中国的自主研发能力正在改变这一局面。
随着国产光刻机的不断突破，中国在半导体领域的自给自足能力将不断提升，对进口设备的依赖将逐渐减少。
这台光刻机的应用前景十分广阔。除了量子芯片，它还可用于新型半导体材料的研发。例如，中科院上海微系统与信息技术研究所的研究人员，利用类似技术构建了碳化硅片上异质集成量子光源，为光量子网络的发展提供了新的解决方案。
中国在半导体领域的突破，不仅是技术上的胜利，更是对国际技术封锁的有力回应。荷兰 ASML 或许没有想到，他们的限制反而激发了中国的创新能力。如今，中国有了自己的 “中国刻刀”，在半导体和芯片领域的发展将更加自主、更加快速。
未来，随着国产光刻机技术的不断完善，中国有望在半导体设备领域实现更大的突破。这不仅将推动中国半导体产业的发展，也将对全球半导体格局产生深远影响。
荷兰 ASML 可能需要重新审视自己的市场策略，因为中国正在成为半导体领域的重要力量。
