荷兰估计要难受了,中国有了自己的光刻机!近日,杭州城西科创大走廊传来一声闷雷——全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已经点火测试,0.6 nm的定位精度、8 nm线宽,直接把实验室里的“量子刻刀”变成了能接单的商业化设备。过去荷兰人听美国的话,最先进的EUV对我们关闸,如今这道闸门被中国自己的工程师生生掰开了一道缝,而且缝还在越撕越大。
故事得从三年前说起。那时,之江实验室、中国科大等几家单位排队等进口电子束光刻机,结果一纸出口管制让订单全部冻结。买不到就自己干!浙大余杭量子研究院拉来省重点实验室、校友企业总部经济园,一起押上了全部筹码:教授带研究生、企业开需求清单、政府一路陪跑,把“实验室样品—量产产品”的死亡谷变成了15 个月的冲刺跑道。最惊险的一夜是今年年初,100 kV高压电源模块在极限测试中突然过流烧毁,整个团队连夜把3吨重的机柜拆成零件,48小时后重新点亮,电子束稳稳地刻出了第一张8 nm线宽的测试图形,那一刻实验室爆发出比过年还响的欢呼。
“羲之”并不是孤独的独行侠。上海光机所5月底刚刚把EUV光源实验平台的转换效率推到6%,6月30日又传出国产EUV采用全新LDP技术路线,第三季度就将进试产;上海芯上微装第500台步进光刻机8月交付,先进封装光刻机国内市占率冲到了90%;璞璘科技的纳米压印设备也在8月通过验收,直接对标日本最新机型。如果把高端光刻设备比作一场马拉松,中国已经从跟跑变成了并排冲刺,甚至在某些弯道开始领先半个身位。
为什么能这么快?答案藏在一条2000家企业的国产供应链里:徐州博康的EUV光刻胶、华海清科的抛光垫、中微的刻蚀机,被“两新融合”机制拧成了一股绳——高校提出指标、企业揭榜挂帅、政府风险兜底,研发成本直线下降,迭代速度成倍提升。工信部算过账:国产EUV一旦量产,4 nm芯片的单片成本比进口设备低40%,光节省下来的外汇就能把下一代High-NA EUV的研发费全包了。荷兰ASML的股价闻声单日下挫7.2%,总裁温宁克在电话会议上三次擦汗的镜头被做成表情包全球疯传,因为中国市场曾经贡献其35%营收,而“中国刻刀”出现之后,这块蛋糕可能三年内归零。
更解气的是定价——“羲之”报价比国际同类产品低一截,已有多家企业和科研机构排队洽谈。曾经被卡脖子的中国实验室,如今可以拿着自己的设备反向吸引国外团队来合作,风水轮流转的剧情比爽文还爽。
好戏才刚刚开始。当国产EUV、电子束、纳米压印多条技术线同时起跑,荷兰人难受的日子还在后头。评论区聊聊:你觉得中国光刻机几年内能在全球市场反客为主?
tiger
独辟蹊径
如来神掌
信息封闭的结果!去看看人家无锡某速公司早多年前就搞了电子束掩模曝光机了!
用户18xxx81
再接再厉,功坚克难,迎头赶超,再创辉煌,振兴中华,走向世界[点赞]
沧浪之水
对国产光刻机,可以赞,但不能吹!
沧浪之水
0.6nm,这精度?对国产光刻机,可以赞,但不能吹!