美国的天都塌了，一夜之间风向巨变！不仅洛杉矶烧光了，就连ASML和台积电也临阵倒戈！因为他们发现比华为麒麟9020和8000A芯片更大的威胁出现。如果不是哈工大把13.5纳米极紫外光成果公布，多少人都蒙在鼓里！
说起来也是尴尬，前一阵子荷兰光刻机巨头ASML的董事长兼CEO还在叫嚣：中国芯片落后西方15年，因为美国禁止EUV光刻机出口，同时还信誓旦旦表示就算给国内图纸，也造不出来光刻机，因为光元器件就有10万个。
但是现在打脸来了，他们没有想到国内除了华为能自研芯片之外。还有哈工大这样一匹黑马，与其说美国忌惮华为，倒不如说是他们害怕国内芯片发展起来。因为他们到现在还没有搞清楚麒麟9020是哪里生产的，而现在国内又给他上了一课，既然已经宣布一等奖，实际上说明已经经过了千次实验得出来的结果，同时能满足极紫外光刻对于光源的需求，也就是说他们提供的13.5纳米光源能够用实现5纳米工艺技术的制造。
首先光刻机的原理是这样的：芯片制造商在使用光刻机生产芯片的时候，会首先把电路图压印在晶圆上，让电路图像在晶圆上成像，这时候就要靠光，类似底片的原理，透过紫外光把设计图缩小到芯片上，这样就完成了生产。而光源的重要性，不言而喻。
但是有一点需要注意，那就是荷兰ASML的EUV光刻机同样使用的也是波长为13.5纳米的光源。这种波长好处是比DUV的光源要短14倍以上，也就是说镜头精度更高。同时让美国气愤的是，本来这种光源ASML用的就是美国Cymer公司提供的，所以这也是为什么台积电和ASML会听得进去美国的怂恿，当初给华为芯片暂停代工。
其次还有一点要注意的是哈工大这次的光源虽然波长也是13.5纳米，但是美国Cymer公司使用的是传统的LPP技术，而哈工大使用是的则是DPP技术，也就是放电等离子体极紫外光刻光源。效率更高，难度更大，但是精准度更高！当然一台顶级的EUV光刻机需要的，不仅是顶级的光源系统、还要有物镜系统、双工件台、控制系统四大件组成。其中物镜系统ASML使用的是来自于蔡司的光学物镜系统。
不过怎么说呢！实际上就现在而言，麒麟9020能做出来7纳米技术，其实说明已经解决了物镜系统和双工件和控制系统。所以这也是为什么有博主说麒麟9020以后可以正常更新的原因，其次让他们美国担忧的还有华为的昇腾AI算力芯片，这也是国内唯一对于英伟达威胁最大的。同时华为的鲲鹏电脑级别芯片等，芯片的问题解决，对于华为，以及对于整个国内市场来说，都是天大的好事。所以你看阿斯麦和台积电现在已经想明白了，因为他们看透了本质，国产科技越制裁只会越强大
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