终于官宣可以制造28纳米芯片了!紫外光、深紫外光、极紫外光,也就是UV、DUV、EUV,我们公布的2台为DUV光刻机。。 氟化氩光刻机也就是DUV光刻机,是小于8纳米,1:3的工艺比例,推算出我们可以批量生产制造28纳米的芯片。也就是相当于ASML公司2008年的水平。 如果4重曝光,28纳米也就是7纳米,就是成本太高,良率低。 按2年进步一代,2026年,我们可以到14纳米,2028年,我们到7纳米。所以我们再耐心等待到2028年。只需要2重曝光,我们就可以轻松制造出3纳米芯片。 这次不是网友猜测,而是村里自己直接公布,所以,不是什么捕风捉影,而是光明正大的推广使用。
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