丹麦大学将使用该工具对 GaAs/AlGaAs 进行原子级刻蚀，以开发单光子源

Samco 宣布，其等离子体刻蚀系统 RIE-400iP 已被丹麦技术大学（DTU）选中，用于量子光子学研究。该系统将安装在大学的中央纳米制造设施 DTU Nanolab，计划于 2026 年中期发货。

RIE-400iP 系统将用于 III-V 族半导体材料的刻蚀，特别是专注于 GaAs（砷化镓）和 AlGaAs（铝砷化镓）。这些材料系统是 DTU 量子光子器件研究的核心，包括用于量子计算和量子通信应用的单光子源的开发。

该系统是在经过竞争性评估流程后选定的，目前系统生产已开始。RIE-400iP 提供先进的等离子体刻蚀性能和原子级工艺控制，支持量子光子学研究所需的纳米结构的高度可重复制造。该工具将作为 DTU Nanolab 现有纳米制造基础设施的补充，并进一步增强其在化合物半导体加工方面的能力。

丹麦技术大学电气与光子工程系副教授 Battulga Munkhbat 表示：“引入具备原子级工艺控制的等离子体刻蚀系统，是我们量子光子学研究的重要一步。对于 GaAs 和 AlGaAs 等 III-V 族材料的精确且低损伤刻蚀，对于制造单光子源中使用的纳米结构至关重要。该系统将增强我们的纳米制造能力，并支持量子器件开发的进一步进步。”

Samco 总裁兼首席运营官川边司（Tsukasa Kawabe）表示：“我们很荣幸 DTU 为这一量子光子学应用选用了 RIE-400iP。在等离子体刻蚀过程中，原子级控制对于 III-V 族器件制造变得越来越重要，特别是在量子和光子应用中，工艺精度直接影响器件性能。Samco 致力于推进支持全球尖端研究的等离子体处理技术。”

DTU Nanolab 作为丹麦的国家纳米制造设施，支持纳米技术、光子学、微电子学和量子器件领域的广泛学术和工业研究。

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