特朗普正式宣布。 10月31日，美国持续施压下，荷兰2025年光刻机出口新规已正式生效！按照荷兰政府公告，管制范围从EUV光刻机进一步扩大，NXT:1970i、1980i等量产型DUV设备也被纳入，ASML已无法对华出口这类核心设备。 这事儿看着是荷兰政府发的公告，其实明眼人都知道，背后全是美国在使劲儿施压。 之前美国没管 DUV 的时候，咱们还能慢慢买设备扩产能，可现在新规一卡，不少工厂的设备更新、产能提升计划都得搁置。 更头疼的是，有些已经订了货的企业，说不定还得面临订单取消的风险，前期投的钱、规划的生产线，都可能打水漂。 美国这么干，说白了就是不想让咱们在芯片领域好好发展，这些年咱们国内芯片产业进步快，从设计到制造都在慢慢突破，美国看着着急，就想通过卡设备脖子的方式，把咱们的发展速度降下来。 他们知道，光刻机是芯片制造的 “卡脖子” 设备，只要把这个环节卡死，咱们就算有再多的技术、再多的资金，也很难造出高端芯片。 而且这次拉上荷兰一起，就是想构建所谓的 “技术封锁圈”，让咱们想买都没地方买。 可荷兰就愿意这么干吗？其实 ASML 心里肯定不乐意，咱们国家是全球最大的芯片消费市场，ASML 之前每年都能从咱们这儿赚不少钱，现在不让卖设备，对他们来说也是巨大的损失。 但荷兰毕竟跟美国是盟友，在政治和安全上得看美国脸色，加上美国可能还会用贸易、技术合作等手段施压，荷兰政府只能妥协。 所以这次新规生效，表面是荷兰的决定，实际是美国霸权在技术领域的又一次体现。 不过咱们也别光着急，其实这些年咱们早就开始想办法应对了，早在几年前，咱们国内就有企业开始跟高校合作，研究 “无掩膜光刻技术”，这可是个能绕开传统光刻机限制的新思路。 传统光刻机得靠光刻胶和掩膜版才能在硅片上刻电路，而无掩膜光刻技术，就像用激光笔在纸上画画一样，直接用激光在硅片上刻图案，不用依赖那些复杂的掩膜版，也能减少对高端 DUV、EUV 设备的依赖。 当时有个做显示面板的企业，本来是用光刻技术生产屏幕，后来发现这项技术能改用到芯片制造上，就联合清华大学的科研团队一起攻关。 一开始没人看好，毕竟传统光刻机技术被 ASML、佳能这些国外企业垄断了几十年，咱们想另辟蹊径太难了。 可没想到，经过几年的试验，他们还真做出了小型的无掩膜光刻设备，虽然现在还只能生产一些低端芯片，但已经能满足物联网设备、智能家居里的简单芯片需求了。 更重要的是，这项技术的核心部件，比如激光发生器、精密控制系统，都是咱们自己研发的，不用看别人脸色。 就像当年咱们搞两弹一星，国外封锁得越严，咱们越能爆发出创造力，现在的芯片产业也是一样，虽然荷兰新规给咱们添了麻烦，但也逼着咱们加快自主研发的脚步。 而且咱们有全球最大的芯片市场，只要有市场需求，就有企业愿意投入研发，就有人才愿意钻研技术。 从无掩膜光刻技术的突破，到国内企业在光刻胶、精密轴承等配套领域的进步，咱们正在一步步搭建自己的芯片产业链。 或许这个过程会很漫长，会遇到很多困难，但只要坚持下去，总有一天能摆脱对国外设备的依赖，到时候美国的技术封锁，也就成了一纸空文。
