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目前HBM是通过硅通孔(TSV)将多层DRAM Die垂直堆叠,并与Base D

目前HBM是通过硅通孔(TSV)将多层DRAM Die垂直堆叠,并与Base Die整合,再通过硅中介层(Silicon Interposer)与GPU或其他AI加速器连接,形成典型的2.5D封装构架。美光认为,随着每颗DRAM的储存密度增加,每位元的功耗效率(pJ/bit)随之下降。HBM多层数堆叠带来热能与机械结构挑战,最大痛点在于功率密度而非功耗。