ASML垄断不行再下重手：上千台光刻机变废铁，外媒曝中国半导体真面目，美国的封锁能否彻底打垮中国技术自主之路？ 美国这两年对 ASML 的施压真是越来越狠，不光不准卖最先进的 EUV 光刻机，连已经卖到中国的 DUV 设备都要卡脖子。2024 年荷兰突然收紧 90nm 以下 DUV 设备的出口许可，更绝的是维修配件。 以前 ASML 工程师上门维修半天就能搞定，现在换个光源模块、工件台零件，得先过美国商务部的审批，一等就是几个月，不少工厂的设备真就成了 “趴窝的铁疙瘩”。 有人算过账，国内现存的上千台 ASML 设备里，有三成因为配件短缺处于半停摆状态，这要是搁几年前，整个半导体产业怕是早慌了神。 可美国这边刚得意没几天，就被泼了冷水。中芯国际去年 4 月直接扔出个大新闻：用国产 DUV 光刻机搞出了 5nm 芯片，还装在了华为最新的处理器上。 要知道，按 ASML 之前的说法，没有 EUV 根本造不了 7nm 以下的芯片，可中国工程师硬是靠多重曝光技术绕开了封锁。 就像用普通相机反复曝光拍出高清照片，虽然工序多、成本高，但良率已经稳定在 60% 到 70%，完全能满足商用需求。这一下，外媒口中的 “技术死胡同”，硬生生被闯成了通途。 更让西方坐不住的是，国产光刻机已经从实验室走到了产线。上海微电子的 SSX600 系列早就稳住了 90nm 以下的成熟制程市场，占国内八成份额，支撑起近三成的成熟工艺产能，而且采购成本比 ASML 同级别设备低 40%，维修响应速度还快得多。 今年 5 月，他们的 28nm 浸没式光刻机已经送样中芯国际和华虹半导体，预计年底就能量产，这机器用 193nm 光源加浸没技术，靠多重曝光能摸到 7nm 的门槛。 另一边，上海宇量昇的 DUV 设备也在中芯国际测试，目标直接瞄准 5nm 制程，连英国《金融时报》都不得不承认，这是中国从 “跟跑” 到 “并跑” 的关键一步。 这背后是整个产业链的 “抱团突围”，国家大基金三期砸了 3000 多亿，全往光刻、材料这些 “卡脖子” 环节砸。 长春光机所的光学镜头、中科院光电所的深紫外光源、新凯来的显影液，一个个关键部件都在突破，现在国产光刻机的核心零部件国产化率已经超 95%。 就像搭积木，以前缺了 ASML 这颗 “大零件” 就搭不起来，现在我们自己能造全套配件，就算没有最顶尖的那块，照样能搭出能用还抗造的 “房子”。 美国的封锁其实早给自己挖了坑，ASML2025 年对华营收占比虽然降到 20%，但中国还是全球最大的 DUV 需求市场，少了这块蛋糕，ASML 的研发投入都得打折扣。 荷兰政府也在骑墙，一边跟着美国收紧限制，一边又怕彻底得罪中国，私下里还在松动部分配件审批。更讽刺的是，美国论坛上吵得热火朝天，有人骂中国 “不守规矩”，有人急着呼吁加强管制，本质上就是怕中国真的搞成自主技术，砸了他们的科技霸权饭碗。 说到底，美国把光刻机当成 “杀手锏”，可这招根本打不垮中国的自主之路。成熟制程有上海微电子撑着，先进制程能靠 DUV 多重曝光绕道，整个产业链还在加速国产化。就像当年的稀土一样，越封锁，越能逼出内生动力。现在外媒再炒 “上千台光刻机变废铁”，更像自欺欺人。 毕竟中国半导体的真面目，不是靠封锁就能掩盖的，而是靠一台台国产设备、一次次技术突破，实实在在拼出来的。美国想靠堵路按住中国，到头来可能发现，自己按住的是自家科技霸权的棺材板。
