上证报中国证券网讯（邱思雨记者操子怡）近日，中微公司宣布其PrimoMenova12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商。
据介绍，该设备专注于金属刻蚀，尤其擅长于金属Al线、Al块的刻蚀，可广泛应用于功率半导体、存储器件和先进逻辑芯片的制造，是晶圆厂金属化工艺主要设备之一。
从性能来看，PrimoMenova™基于中微量产的ICP刻蚀产品PrimoNanova®研发制造，可达到高速率、高选择比及低底层介质损伤等刻蚀性能。另外，该设备搭配高效率腔体清洁工艺，可减少腔室污染，延长腔体持续运行时间。PrimoMenova™系统还集成了配备高温水蒸气的除胶腔室，高效去除金属刻蚀后晶圆表面残留光刻胶及副产物。PrimoMenova™和除胶腔体可根据客户工艺需求灵活搭配，最大程度满足客户高生产效率的要求，确保机台在高负荷生产中的稳定性与良率。
中微公司主营高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。该公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀机和ICP电感性低能等离子体刻蚀机可覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求。
截至2024年年底，中微公司累计已有超过6000台等离子体刻蚀和化学薄膜设备的反应台，在国内外137条生产线实现量产和大规模重复性销售。与此同时，该公司还在加大研发力度，目前在研项目涵盖六大类、超过二十款新设备的开发。
中微公司资深副总裁丛海表示：“中微公司开发的一系列刻蚀设备在性能、稳定性等方面满足了客户的高标准要求，并可覆盖国内大多数的刻蚀应用需求。中微公司持续践行‘五个十大’的企业文化，将产品开发的十大原则始终贯穿于产品开发、设计和制造的全过程，秉持为达到设备高性能和客户严格要求而开发的理念，坚持技术创新、设备差异化和知识产权保护。随着新应用的进一步拓展，我们将继续推进与客户的密切合作交流，通过技术领域的持续创新，不断为客户提供极具竞争力的产品和解决方案，实现稳步发展与深度共赢。”
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